征文通知

征稿通知--GMP 2020几何造型与处理会议


几何造型与处理(Geometric Modeling and Processing,GMP)会议于2000年举办首届,是关于几何建模、仿真和计算的国际会议。几何数据的建模和处理是包括计算机图形学、计算机视觉、CAD/CAM、医学成像、工程分析、机器人和科学计算等领域在内的许多计算机应用的基础。自2000年以来,GMP会议为相关领域的研究人员提供了优秀的交流和讨论平台。

会议时间:2020年5月13-15日

地点:日本冲绳

会议主页:https://indico.oist.jp/gmp2020

议征集以下领域(包括但不限于)的高质量论文投稿

• Mathematical foundations of computer-aided geometric design

• Computational geometry algorithms and analyses

• Multi-resolution and heterogeneous modeling

• 3D printing and computational manufacturing

• Geometric feature modeling and recognition

• Representation of curves and surfaces

• Discrete differential geometry

• Isogeometric analysis

• Shape optimization

• Material modeling

重要日期

2019年12月13日:Abstract Submission

2019年12月20日:Full Paper submission

2020年2月3日: First review cycle notification

发表

所有会议接收长文将发表至Elsevier出版社旗下的著名学术期刊Computer-Aided Geometric Design(CAGD,CCF-B类期刊)。

论文投稿

https://easychair.org/conferences/?conf=gmp2020

欢迎大家踊跃投稿并参会!

 

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邮编:250101